在高真空鍍膜設備系統(tǒng)中，特別是超高真空鍍膜系統(tǒng)工藝中，將氣體從構成真空材料中放出并排除掉是決定鍍膜效果的關鍵因素。在所有超高真空條件下，器壁表面實際上并未與環(huán)境氣體處于平衡狀態(tài)，而是覆蓋著一層可凝性氣體，其含量大大超過平衡狀態(tài)下的含量，所以在超高真空區(qū)域，器壁的放氣率只取決于抽氣時聞和表面的經歷，而與系統(tǒng)的總壓力無關。通常不銹鋼超高真空系統(tǒng)的極限烘烤濕度為440LC左右，但是某些試驗研究表明：在系統(tǒng)的除氣過程中，烘烤溫度不需要特別嚴格規(guī)定，而系統(tǒng)各處溫度的均勻性要比烘烤溫度重要的多。最好的方法是盡可能均勻地烘烤整個系統(tǒng)，而烘烤溫度在150～250℃比較合適。均勻烘烤40 min的小型真空鍍膜機中保留著不同比例的未烘烤部分對系統(tǒng)極限壓所產生的影響(烘烤溫度為300。C)。保留的未烘烤的表面積雖然僅占整個系統(tǒng)的百分之幾，但對系統(tǒng)的最終壓力的影響卻很大。如果在真空系統(tǒng)內部的某種材料不能承受1 5 O℃的溫度或者某些重要部件的熱膨脹能引起麻煩時，就應選擇較低的烘烤溫度，但一定要對系統(tǒng)所有的部件都要盡可能地均勻烘烤，而且烘烤所持續(xù)的時間應加長。如果系統(tǒng)表面上附有高結合能的物質，則需要較高的烘烤溫度才能有比較理想的放氣率。當無法對系統(tǒng)整體進行均勻烘烤，例如，當真空室內裝有熱容 量大的法蘭或有絕熱的裝置時，對它們進行均勻烘烤十分困難，則需要選擇較高的烘烤溫度。出自匯成真空鍍膜設備http://www.suichenggd.cn/

2013-7-30